貴金屬真空濺射靶材
隨著工業的發展，保護環境的要求越來越高，水鍍行業由于對環境的危害性極大，正逐漸被真空離子鍍所取代。2001年，我們完成了政府科技項目《真空離子鍍靶材的研制》，并在國外有關專家及國內相關院校、研究所的協助下，不斷完善工藝體系。目前，我們已能生產多種規格和成份的靶材以及金、銀、鉑、鈀及其合金的板材、片材，并供應給日本、香港、臺灣等國內外企業，均獲得好評。
金駿瑋公司自主研發生產的真空濺射靶材成分設計合理、表面平整光滑，具有純度高、微觀結構優異及利用率高等特點，被廣泛應用于裝飾行業、電子行業的表面處理領域。產品系列以貴金屬濺射靶材為主,靶型主要有：平面矩形、柱形、圓盤形、環形、粒狀等，規格和成分亦可以根據用戶的具體要求而定做。